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自远磨具携多款钻石研磨液、CMP抛光液精彩亮相第五届深圳半导体展!米乐M6

发布时间:2023-05-24      来源:网络


  米乐M65月16日,第五届深圳国际半导体技术暨应用展览会在深圳国际会展中心开幕。本届展会以“芯机会•智未来”为主题,涵盖7大特色展区,超40,000平方米展览规模,汇聚600+精选展商。其中,绍兴自远磨具有限公司(以下简称“自远磨具”)携精密研磨抛光产品精彩亮相本届半导体展会。

  为助力 中国半导体产业不断向高质量发展,与行业携手寻求国产“芯”机遇, 自远磨具凭借自身多年的技术积淀,积极进行成果转化和新产品开发,现 可为蓝宝石、碳化硅衬底等半导体 行业相关企业提供清洁、高效、创新的平面研磨解决方案和精密、清洁、高效的CMP抛光解决方案以及方案配套的相关磨具产品。 产品包括: 钻 石减薄垫、碳化硼粗磨液、组团金刚石研磨液、多晶、类多晶金刚石研磨液、纳米氧化铝抛光液、纳米氧化铈抛光液、纳米二氧化硅化合物半导体抛光液、纳米二氧化硅碳化硅抛光液等。

  未来,自远磨具将继续深耕半导体行业, 结合本公司产品定位和市场需求,拟建成“三中心一网络”的发展支柱:在北京建立研发中心,一方面和高校、科研院所密切联系,建立产学研合作模式;一方面吸引高素质研发人员或优秀毕业生加入,形成公司持续发展的源动力;在保定建设生产交付中心,实现统一化、精益化生产管理,积极进行成果转化,提供可靠稳定产品;应用开发与展示中心则建在绍兴,与市场紧密结合,凭借完善的打磨抛光系统为客户提供现场订制化开发方案,大大缩减客户的试用时间和试错成本,以整体技术服务能力,建立深度合作基础和长久合作黏性。

  半导体是国家大力发展的行业,尤其是半导体行业有大量“卡脖子”技术存在,自远磨具将投入更多资金和精力开发新产品,通过材料创新,助推行业发展。