发布时间：2023-01-15 来源：网络
米乐M6一颗芯片的诞生，所经历的设计、制造、封测等几个过程，其实就目前国内的情况已经实现了从无到有的阶段，只是想要建起一条完善的、稳定的产业链还有一定的难度。国内都说中芯国际在工艺上在技术上都是比较领先的，但是论一条生产线成都是靠进口，而这个才是问题的关键。
那么我们自己的设备呢？尹志尧在接受采访的时候表示，我们与先进设备还差两三代。但是巧的是当下正值全球缺芯，且摩尔定律逐渐放缓，这就给了我们一定的追赶空间，当中芯国际、台积电、华虹等企业纷纷加大力度投放在28nm的时候，似乎一切都有了那么点转机，而国内近来半导体设备频频获得突破！用网友的话说就是，你缺什么，咱就造什么！
印象中能够做先进光刻机的当下也只有ASML，其实ASML也是想要供货于华，但是中间没有“通行证”，所以自己也是在某些平台多次呼吁要重新考虑对限制的放宽。
确实如此，一台先进的光刻机设备，涉及到5000家的供应商，零部件高达十余万，覆盖了光学、物理学、高分子物理与化学、图像识别等等领域，其难度是可想而知。
但是光刻机其核心的技术如果攻克了，剩下的我们再去找供应商谈合作，这样一来不就容易实现了新突破吗？
而国内近来也是频频爆出在光刻机方面的突破，如清华在极紫外光粒子加速器；中科院前段时间被爆出的高能同步辐射光源；以及华卓精科的双工作台，这些都是比较重要的核心技术，如今也也迎来突破，下面或许就是整合部分吧。
研发难度仅次于光刻机的离子注入机，在上周四的某次发布会上，中电科对外透露目前已经实现了攻克，可以提供到一站式服务，值得一提的是该公司的8英寸抛光设备也已经落地，并且进入到中芯国际、华虹的生产线中，这一点，更是实现了自主研发。
除此之外，近来有媒体爆料称此前一直被美日韩所垄断的湿法设备，已经被至纯科技所攻克，并且就现在的信息来看，28nm的国产湿法设备已经投入生产，14/7nm的设备预计到2022就可以交付客户手中，而它的客户，则包含中芯国际和华虹。
一颗芯片所涉及到设备，正在陆陆续续被我们所攻克所提到。当然，这可能涉及到的是28nm或是60nm等等，但这依然是一个很好的开始了！
今后的竞争必然是一个生态的竞争一个产业的竞争，而不再是你有多少芯片，你的技术进攻到了多少级别。
就从现在的市场来看，美、台积电、三星确实加速入局3nm，但事实证明市场的83%芯片节点都在10nm以上，换言之，现在成熟工艺还是很有市场的，你看台积电都开始疯狂地扩产28nm，中芯也将今年的支出大部分用于扩产，就足以可见，这个制程的芯片，还大有可为！
所以不必着急，攻克当下最为要紧的难关，一点一点地实现突破，不管是28nm还是60nm，只要是进步，总比原地踏步好得多。
